本系研究設備

本系研究用之設備主要包括：

1.凝態材料物理：X-光繞射儀二部、日立2400型掃瞄式電子顯微鏡及能量分散成份分析儀、Quantum Design超導量子干涉磁距量測儀、電弧熔煉爐、真空感應熔煉爐、磁滯曲線量測儀、振盪樣品測量儀、熱分析儀(DTA，TGA)、各種薄膜濺鍍系統、α-step膜厚測量儀、各種高精密高溫爐及手套箱(用於製備對氧靈敏之材料)等。

2.光電物理： 脈衝對撞鎖模染料雷射、鈦-藍寶石雷射、Argon 離子雷射、半導體雷射、Q-開關Nd：YAG雷射、Q-開關鎖模Nd：YAG雷射、光譜儀、鎖相放大器、精密防震光學桌及光參量振盪器。

3.表面物理： 高真空濺鍍系統（MBE）、Auger電子分析儀。高真空及空氣中之掃瞄穿透式顯微儀﹝STM﹞，原子力顯微儀（AFM），磁力顯微儀(MFM),介電常數量測系統，低能量電子繞射儀（LEED）, 高能量電子繞射儀 (RHEED)。

4.原子光學及雷射冷卻: 單模、穩頻之二極體雷射系統、高齡敏度數位相機、高精密防震光學桌、波長計、光波分析儀、鎖像放大器、溫控計、超高真空系統。

5.理論及計算物理： 本系電腦室之主要電腦工作站有SGI 200（4CPUS），IBM 397一台，SGI Dctane 乙台，Pentium Clusters(16CPU)和周邊設備等。